| 年度 | 104 |
| 等級 | SCI |
| 論文名稱 | An integrated cobalt disulfide (CoS2) co-catalyst passivation layer on silicon microwires for photoelectrochemical hydrogen evolution |
| 全部作者 | Chih-Jung Chen; Po-Tzu Chen; Mrinmoyee Basu; Kai-Chih Yang; Ying-Rui Lu; Chung-Li Dong; Chong-Geng Ma; Chin-Chang Shen; Shu-Fen Hu; Ru-Shi Liu |
| 卷數 | Journal of Materials Chemistry A 2015(46), p.23466-23476 |
| ISSN(ISBN) | 2050-7488 |
| 使用語言 | 英文 |
| 備註 | 期刊論文 |