| 年度 | 93 |
| 論文名稱 | Directional nickel silicide-induced crystallization of amorphous silicon channel under high-density current stressing |
| 全部作者 | Yeh, P.H.; Yu, C.H.; Chen, L.J. |
| 卷數 | Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B 237, pp.167-173 |
| ISSN(ISBN) | 0168-583X;1872-9584 |
| 使用語言 | 英文 |
| 備註 | 期刊論文 |